灰分坩埚的这些注意事项简单看看吧

　　灰分坩埚主要用于气氛保护下烧结、真空下反应烧结等。广泛应用于高等院校，科研院所，工矿企业等实验和小批量生产。主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片，也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。
 

　　灰分坩埚的熔点高，化学性质稳定，在空气中灼烧后不发生化学变化，也不吸收水分，大多数化学试剂对它无侵蚀作用。
 

　　能耐氢氟酸和熔融的碱金属碳酸盐的腐蚀是铂有别于玻璃、瓷等的重要性质，因而常将其用于沉淀灼烧称重、氢氟酸熔样以及碳酸盐的熔融处理。铂在高温下略有一些挥发性，灼烧时间久后要加以校正。100cm2面积的铂在1200℃灼烧1h约损失1mg，铂在900℃以下基本不挥发。
 

　　注意事项：
 

　　1、产品使用前，需装炉空载煅烧。参考煅烧工艺为：
 

　　①煅烧时，坩埚埚底位于炉内高温区，采取分段升温方式，低温时不充氩气，
 

　　②煅烧温度>1600℃(或煅烧功率大于化料功率5kW左右)，
 

　　③煅烧时间为(4～8)h，
 

　　④煅烧次数为(1～3)次，数次烘烤时，需将前次煅烧时沾污在炉内及被煅烧物上的杂物清理干净才进行下次煅烧。
 

　　2、装料前，需将埚托、碳/碳坩埚等制品的内外表面清理干净，安放平稳，并使灰分坩埚的埚体与其活动底的接缝处高度一致,平滑过渡,防止因安装不当至开裂漏硅。
 

　　3、放灰分坩埚时，视其质量使外径小于内径(3～8)mm，以利于加热时产生的气体逸出，减轻其对灰分坩埚的危害。
 

　　4、在使用过程中若出现闷炉情况，应在停炉的前20分钟采取相应措施，减慢硅液的冷却速度，尽可能使埚内硅料按从下往上的顺序冷却，以减小硅料冷却时膨胀产生的应力对坩埚的损害。